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      中國國家隊出手入局光刻機 20年前就已經悄然行動

      芯片一直是中國的技術短板,但只能說是這幾年的短板了,這一次國家隊出手,入局光刻機!抱著必勝的信念。

      或許是因為華為的原因,人們逐漸開始關注到芯片這個不經常見到的小東西,同時也開始了解到,芯片能夠被應用到各種終端的電子產品上,是經過了很多復雜的過程,僅生產制造一個環(huán)節(jié),就足以令我們眼花繚亂。

      然而隨著人們認知程度的提高,也已經知道,芯片生產制造中,一個關鍵環(huán)節(jié)就是光刻環(huán)節(jié),其中就涉及到了關鍵設備光刻機,這或許就是大部分人能夠了解到的最多情況。

      我們知道,近日中科院正式宣布了,要開始進入光刻機領域,做到在國際上占有一席之地,既然確定了這樣的目標,那么所要研發(fā)的光刻機,就應該是EUV光刻機。

      很多人可能還不了解,目前光刻機主要是分為EUV光刻機和DUV光刻機,前者采用極紫外光刻技術,后者采用深紫外光刻技術,EUV是已經被確定的,用于制造先進工藝芯片的光刻機發(fā)展方向。

      就在近日,中科院長春光機所宣布,長春光機所作為依托單位獲批建設“中國科學院精密光電制造技術工程實驗室”。

      然而這里的實驗室并非我們常規(guī)理解的實驗室,也并不代表著對某些技術研發(fā)的開始,事實上正相反,是推進相關領域科技成果轉移轉化的平臺。

      很顯然,中科院長春光機所將成為中科院發(fā)展光刻機的幕后英雄,事實上,長春光機所早在20年前就開始了對EUV技術的探索。

      自上世紀90年代起,長春光機所就開始專注于EUV/X射線成像技術研究,著重開展了EUV光源、EUV多層膜及相關EUV成像技術研究,形成了極紫外光學的應用技術基礎。

      可以說這個時間與國際上開始對EUV技術的研究時間處在相同的水平,在之后的2002年,長春光機所就已經研制出國內第一套EUV光刻原理裝置,實現(xiàn)了EUV光刻的原理性貫通。

      然而就在三年前,長春光機所承擔的國家科技重大專項項目,“極紫外光刻關鍵技術研究”順利通過驗收。

      中科院微電子研究所所長葉甜春表示,長春光機所光刻機隊伍是承擔最核心、最高端、最艱苦任務的隊伍,也是專項團隊中最有戰(zhàn)斗力、最能抗壓、最值得信任的主力部隊。

      就在當時,我國科技部原副部長曹健林,作為國內熟悉EUV光刻的領域專家之一,其表示,30年前的“中國光刻夢”正在逐步變?yōu)楝F(xiàn)實。

      所以我們看到,中科院雖然是剛剛才如此正式的宣布要攻破光刻機,但對光刻機的布局其實已經有了近三十年的歷史,這就像之前任正非所說的:我們有準備,不是說說而已。

      可以說,這句話用在中科院身上非常合適,我們不是說說而已,而是有著充足的準備。

      而且想必也已經有朋友了解到,在今年的七月份,中科院蘇州納米所,推出了一種新型5nm超高精度激光光刻加工方法。

      所以整體來看,中科院在光刻機,尤其是目前最先進的EUV光刻技術領域,有著二十多年的技術積累,目前已經開始走向成果轉化,用中科院白院長的話說,就是解決一批“卡脖子”的問題。

      當然,極紫外光刻技術難度如此之外,長春光機所是“極紫外光刻關鍵技術研究”項目的牽頭單位,成員單位還包括像北京理工大學、哈爾濱工業(yè)大學、華中科技大學這樣的大學機構。

      可以說,他們都是我國實現(xiàn)EUV光刻機偉大理想的幕后英雄,也可以說,我們對中科院對光刻機的攻堅充滿了信心,相信這一天的到來不會遠了,我們拭目以待。

      在大多數人的想法里,這一次國家隊都出手了,事情應該是妥妥沒有問題了,相信不用多久,也許就這么兩三年我么就能收到成功的消息。

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